Китайская государственная компания из Шанхая сделала шаг вперёд в производстве установок для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) с иммерсионной технологией. Первые поставки таких установок ожидаются уже в текущем году, что может значительно изменить рынок полупроводников. В статье мы рассмотрим, какие компании станут первыми пользователями новых технологий и как это повлияет на глобальный рынок.
Производственные планы и клиенты
В 2026 году планируется поставка пяти установок DUV, а к 2027 году — около двадцати. Это важный шаг для Китая, так как
- Первоначальные клиенты: среди них такие гиганты, как SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies.
- Запреты со стороны США: эти компании попадают под законопроект, который ограничивает сотрудничество с нидерландской ASML.
Технологические особенности новых установок
Новые DUV-установки будут использоваться для создания полупроводников с техпроцессом 28 нм и даже 7 нм через многократное нанесение рисунка. Однако есть ряд ограничений:
- Качество продукции: увеличивается вероятность ошибок совмещения слоёв.
- Зависимость от импортных компонентов: хотя большая часть деталей производится в Китае, некоторые критически важные элементы по-прежнему поступают из Японии.
Конкуренция с ASML
ASML остаётся основным игроком на рынке иммерсионной литографии. В 2026 году компания планирует отгрузить около 130 систем, что соответствует уровню предыдущего года. Тем не менее:
- Доля рынка: на Китай приходится лишь 20% чистой выручки ASML в этом году — меньше, чем в прошлом (33%).
- Планы по увеличению объёмов: ASML намерена увеличить объёмы производства на 30% к 2027 году.
Долгосрочные перспективы китайской литографии
Несмотря на текущие достижения, реализация китайской технологии DUV может занять много времени. Ожидается, что:
- Kвалификация новых машин: процесс может занять месяцы перед тем, как они смогут выйти на рынок.
- EUV-технология: разработки в области экстремальной ультрафиолетовой литографии пока далеки от практической реализации.
«Коммерческое внедрение иммерсионной DUV-литографии в Китае ожидается лишь в середине 2030-х годов,» — сообщает Tom’s Hardware. Таким образом, несмотря на прогресс, китайская индустрия полупроводников всё ещё имеет долгий путь до конкурентоспособности с мировыми лидерами.
